PENGEMBANGAN KETERTELUSURAN PENGUKURAN MELALUI UJI KOMPETENSI LABORATORIUM NANOTEKNOLOGI DALAM PENGUKURAN DIMENSI

Abstract

Untuk pertama kalinya di Indonesia dilaksanakan kegiatan uji banding nanoteknologi dalam pengukuran dimensi dan diikuti oleh 6 peserta. Tujuan uji banding nanoteknologi ini adalah membantu peserta dalam melakukan validasi atas peralatan ukur yang dimiliki dan memastikan bahwa keluaran alat ukur yang digunakan memiliki performa yang prima. Kegiatan uji banding nanoteknologi ini mengadopsi kegiatan uji banding internasional yang bernanung di bawah Working Group Dimensional CCL dengan nama Nano4.   Kegiatan uji banding nanoteknologi menggunakan sampel berupa Certified Reference Material (CRM) yang telah dikalibrasi dan tertelusur ke CMS ITRI Taiwan. Besaran yang diukur dalam kegiatan uji banding adalah pitch dengan nominal 300 nm dan 700 nm. Keenam peserta uji banding menggunakan peralatan Scanning Microscope Electron (SEM) untuk melakukan pengukuran dengan spesifikasi peralatan yang berbeda-beda. Analisis terhadap hasil pengukuran uji banding nanoteknologi dilakukan dengan pendekatan statistika En-number. Mengingat BSN belum memiliki fasilitas pengukuran nanoteknologi maka evaluasi hasil pengukuran dilakukan secara konsensus menggunakan pendekatan secara statistik yaitu dengan rata-rata (mean), nilai tengah (median) dan rata-rata tertimbang (weighted mean). Hasil evaluasi pengukuran dibandingkan ke nilai acuan yang diperoleh dari sertifikat kalibrasi CMS ITRI, Taiwan. Berdasarkan nilai konsensus menggunakan weighted mean diperoleh bahwa untuk nominal 300 nm keenam peserta inlier, sama halnya untuk nominal 700 nm. Hasil evaluasi menggunakan pendekatan statistic mean dan median sangat berbeda dibandingkan dengan weighted mean. Sedangkan evaluasi pengukuran dengan menggunakan nilai acuan dari CMS ITRI, Taiwan dapat disimpulkan bahwa uji banding nanoteknologi secara dimensional dengan parameter pitch memperlihatkan hasil yang memuaskan di nominal 700 nm. Namun hasil berbeda ditunjukkan pada nominal 300 nm.